阉割版的出口光刻机，全部采用石英透镜。
石英有良好的光学性能，化学性能也很稳定，光科技运转的时候，能保证紫外光传输稳定。。 石英透镜技术，早在五十年代就出现了。
鉴于制造技术，石英透镜多为球形或圆柱形，加工简单，能保证加工精度。 实践郑
也有人把石英透镜制造成非球面形状。 用在一些精度需求不高的地方。
光刻机精度要求高。
只有球面和柱形石英透镜才能满足精度要求。
石英透镜技术从五十年代出现， 一直用到七十年代，中间有多次改良，改良幅度都不大。 仍然是以球面和柱状为主。
石英透镜制造简单，缺点也“零六零”十分明显。 首先。
使用石英透镜，容易引起球差、慧差和像散等光学问题，这些问题会造成成像失真，影响光刻机性能。 限制了芯片精度。
同时。
因为石英透镜是球面状的，或者是柱状的，造成焦点深度相对较浅。
焦点深度和清晰成像范围成正比，焦点深度越浅，精细成像范围越，限制了光刻机的性能。 其次。
石英透镜工艺局限和设计局限，限制了它的最加工精度。 是用石英透镜，最精度都是微米级。
除非有革命性的加工工艺进化，或者换一种材质的透镜。 否则。
加工精度突破不了微米。
第三就是加工精度限制。
石英透镜表面是圆形的，或者是援助型的，看起来很圆滑。 实际从微观角度观察，很难做到标准的圆。
肉眼看不出来，因为肉眼的精度有限，可一旦用在光刻机上，精度到微米级别，影响就很大。 会导致成像不稳定，导致光学畸形。
出口的阉割版光刻机，用的都是石英透镜，因为成像不稳定和光学畸形，废品率就会很高。 废品率高。
成本分摊到成品上。
造成芯片的成本普遍偏高。
第三是石英的光学折射率相对较高。
折射率高，就会产生折射效应和衍射效应，会造成成像模糊，在一定程度上影响精度。 即使是这样。
对其他国家来。
龙国出口的光刻机已经是非常先进，精度非常高，是他们短时间内难以企及的，不得不进口。 要是有自我研发能力还好。
要是没有自我研发能力， 一直以来进口，就会严重限制他们的工业发展，发展速度严重落后。 龙国自己用的第一代光刻机，用的也是石英透镜，但加工技术不一样。
用的是抛物面透镜技术。
通过非球面镜改善相差，相比球面镜，柱镜片，抛物面透镜有更高的精度。
抛雾面透镜技术，相比球面透镜技术，复杂很多，加工难度高很多，加工成本也跟着上升。
导致抛物面透镜比球面透镜贵很多。 同时。
抛物面透镜也不完美。
非球面，光线在进入透镜的时候，折射角度会有所变化，会导致曝光区域的光强度分布不均。
导致图案畸形，或者不完全曝光。 这些都会影响光刻机的精度。
比抛物镜技术更先进的技术是布拉格透镜技术，能制造出一种有周期性变化折射率的光学元件。
这种技术出现在八九十年代。 制造技术更复杂。
成本更高。
万兴邦没有采用布拉格透镜技术，而是采用了更先进的非球面透镜技术。
万兴邦穿越之前，在繁华年代，最先进的光刻机使用的透镜，用的技术就是非球面透镜技术。 相比传统透镜。
非球面透镜技术优点很多，全方位超越传统透镜。
第二代光刻机的技术，不仅在六十年代是领先的，就算再过五六十年，很多技术也不过时。 同时。
第二代光刻机采用了接触式近场光刻技术。
而第一代光刻机，包括出口的阉割版，用的都是远场光刻技术。
远场光刻技术缺点非常明显。 首先受光的衍射限制。
应用远场光刻技术的光刻机，精度根本达不到纳米级别，造成传统光刻机无法应用在纳米领域。 也处理不了特征尺寸非常或非常大的图案...
罪魁祸首就是光的衍射!
在加工特征尺寸非常的图案的时候，由于光的衍射效应，造成分辨率有限，无法准确复制尺寸结构。
加工特征尺寸非常大的图案的时候，又因为投影范围有限，无法覆盖足够大面积，也无法准确复制大尺寸结构。 其次是成本高。
传统光刻机因为技术限制，对原材料要求苛刻，符合加工条件的原材料价格一般都比较贵。 增加了加工成本。
刨除远场光刻技术的缺点。
第一代光刻机和出口阉割本光刻机，还有第二个致命缺点，就是加工的周期比较长。 处理复杂图案的时候，需要多次对准，多次曝光。
就延长了加工周期。 增加了时间成本。
要是芯片需要多层结构或多个工艺，加工中心还会进一步延长，导致加工的时间成本更高。
第三个缺点是对使用环境的要求。
传统光刻机需要洁净的加工车间，以保证光刻胶和样品不受污染，就需要高规格的加工车间。 高洁净度车间的成本，也会经常在加工成本内。
进一步增加了芯片的成本。 同时。
第一代光刻机和出口版的光刻机，维护也相对复杂，也变相增加了芯片成本。 总的来。
0.0 第一代光刻机和出口版光刻机，加工精度低，加工成本高，操作不方便，维护起来也很复杂。 注定邻一代和出口版肯定会被淘汰。
但肯定不是现在。
第二代光刻机采用的近场光刻技术，把光刻胶和掩膜之间的距离，缩到只有光波长的尺寸。 距离近。
更易实现高分辨率。
更容易提升加工的精度。
尽管近场光刻技术精度已经很高，万兴邦还是不太满意。 其一。
近场光刻技术复杂度高，操作难度大。
需要高精度探针，或者接触式探头，对控制和操作的精度要求也很高。
高精度探针制作难度大，成本高，对制造工艺和设备要求有些苛刻，这还只是其中一个缺点.
近场光刻技术的第二个缺点是速度! 这才是万幸帮最在意的。
近场光刻技术工作的时候，需要逐点或逐行转移，相比接触式光刻机技术，速度肯定慢很多。。 这是机制上的问题。
不是光改善其他技术就能追上的。
逐点或逐行转移的加工机制，对于需要通量高和大面积图案的，适用性很低。 而这是未来的趋势。
未来的芯片越来越复杂，需要的通量越来越高，也会越来越大，普通近场光刻技术逐渐过时。 同时。
近场光刻技术由于自身短板，对加工芯片的尺寸和形状也有一定限制。
在加工一些特殊芯片的时候，速度更慢，效率更低，还会降低成功率，增加芯片的制造成本。
这些都是内因。 还有外因。
近场光刻技术对操作者的要求很高，因为需要12高精度调整和控制。 这就要求对操作者进行严格培训。
培训的成本，最终也会加到芯片的成本上。
而且一旦出意外，操作员出了问题，想临时调其他操作员过来根本不可能，因为要求太高了。 对此。
万兴刚想出改进的办法。
使用接触式近场光刻技术弥补短板。
直到万兴邦穿越之前，繁华年代的光刻机，使用的就是接触式近场光刻技术。 是他知道的。
最先进的光刻技术。
刚下线的第二代光刻机，无论透镜技术，还是光刻技术，都超越了时代，达到繁华年代的标准。
接触式近场光刻技术，就是近场光刻技术的改良型。
借助接触探针，或者探针阵列，与光刻胶直接接触，把复杂的图案转移到光刻胶上。
零距离接触，排除其他干扰，能实现更高的分辨率，更快的转移速度，以及更高的可靠性。 稳定性。
尤其是用于高精度和通量高的应用。
远远超过第一代光科技的分辨率限制，在分辨率方面实现了质的飞跃。
在纳米制造、生物学和光学等领域，都有着非常广泛的应用前景，也是多个领域发展的前提。 要是没有高精度芯片，很多领域是发展不起来的。
“接触式近场光刻技术，相比传统的近场光刻技术，最少能提升百分之三十到四十的加工速度。” “节约时间成本，同时能提高精度，提高成品率。”
“第二代光刻机技术，就算一直用到本世纪末，也不会落后，其他国家也根本没机会赶上来。” 万兴邦有这个自信。
因为他拿出来的技术， 一方面来自记忆， 一方面来自系统，两者融合，超越这个时代。
“只要给我一点时间，有邻二代光刻机，无论是奔腾d 处理器，还是酷与双核处理器，我都能弄出来。” 万兴邦回忆起前世的科技。
他可不是盲目自信。
这两种处理器，原来的历史轨迹中，都是两千年之后才出现的， 一个是零五年， 一个是零六年。 这两种处理器的出现，都依赖于光刻机。
刚下线的第二代光刻机，达到了能生产两种处理器的水准，某些方面，甚至远远超过这个水准。 比如光刻胶。
喜欢四合院：万兴邦的逆袭时代请大家收藏：(m.binglkuw257.com)四合院：万兴邦的逆袭时代二五七书院更新速度最快。